中国开始量产国产 DUV 光刻机 今年目标生产约 5 台
中国已开始大规模生产自主研发的浸没式深紫外（ DUV ）光刻机。知情人士称，上海一家国企正推进量产，计划今年生产约 5 台、2027 年约 20 台，将交付中芯国际、华虹半导体等国内厂商。但该设备在性能和可靠性上仍落后于 ASML ，芯片商需数月甚至更长时间测试其精度与兼容性，方能投入量产产线。
受此消息影响，ASML 股价一度跌超 6%。据悉，国产设备主要使用国产零部件，部分关键部件仍来自日本，且今年本地供应链延误已影响进度。业内认为，国产 DUV 短期内难以对 ASML 构成直接威胁，但产量持续增加可能逐步侵蚀其在中国市场的地位，尤其是在西方若收紧出口限制的情况下。
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